年収に占める賞与の割合が非常に高い。近年では、半導体市...
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1940年に東京応化研究所を母体に会社化し、1968年に半導体用フォトレジスト開発に成功している。高分子設計・微細加工・高純度化技術を基盤に、前工程レジストから後工程向け反射防止膜、感光性永久膜まで材料を供給している。製品例として「OFPR-2」「NMD-3」「TDUR-P3435」「TMMR S2000」「SWK-EX4」展開となっている。
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